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nanoArch P150 25μm高精密3D打印系統是科研級3D打印系統，擁有25μm的打印精度和10μm的超低打印層厚，具備優良的光源穩定性，非常適合高校和研究機構用于科學研究及應用創新。

nanoArch P140 10μm精度微納3D打印系統是科研級3D打印系統，擁有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印層厚，從而實現超高精度的樣件制作，非常適合高校和研究機構用于科學研究及應用創新。

光敏樹脂3D打印機作為一種常見的3D打印技術，具有高精度、高速度、多材料等優點，被廣泛應用于制造、醫療、藝術設計等領域。

nanoArch S130 2μm精度微納3D打印系統是由摩方精密自主研發的超高精度微尺度3D打印系統。設備采用面投影微立體光刻（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技術，是目前行業極少能實現超高打印精度、高公差加工能力的3D打印系統。

microArch S240A 10μm高精度微納3D打印系統基于BMF摩方的技術?面投影微立體光刻技術（PμSL）構建，并融入了摩方自主開發的多項技術。摩方PμSL是一種微米級精度的3D光刻技術，這一技術利用液態樹脂在UV光照下的光聚合作用，使用滾刀快 速涂層技術大大降低每層打印的時間，并通過打印平臺三維移動逐層累積成型制作出復雜三維器件。